东莞汉高公司根据平面研磨机加工不同材质要求用途配置了各种粒度系列抛光研磨液，从0.05微米-W40微米各种规格研磨液，技术人员根据现场要求推荐客户选择适合工艺，配置的平面研磨抛光液悬浮度好,抛光质量稳定,不含对人体有害成分,有利于环保。
一、二氧化硅抛光液具有良好的切削力，加工品质相对较稳定。广泛适用于超硬材料的抛光。
二、二氧化硅抛光研磨液利用二氧化硅化学结构的修复性，在研磨抛光过程中能够保持产品表面的平整度和光亮度较，广泛用于光学晶体、陶瓷、超硬合金等各种硬质材料的精抛光工艺。
注意事项：1.请使用前先摇匀。2.在使用时，可用少量的水加以稀释。
产品使用注意事项
1.请使用前先摇匀。
2.在使用时，可用少量的水加以稀释。
3.产品过期不要使用